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開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-F3LV

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北京鴻瑞正達科技有限公司

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產品簡介

產品簡介：開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-F3LV是由開啟式單溫區(qū)管式爐、機械泵、三通道浮子混氣系統(tǒng)組成，可為CVD或擴散實驗提供1-3種的混合氣體，真空度可達10-2torr

詳細介紹

產品簡介：開啟式單溫區(qū)低真空 CVD 系統(tǒng) OTF-1200X-F3LV 是由開啟式單溫區(qū)管式爐、機械泵、三通道浮子混氣系統(tǒng)組成，可為 CVD 或擴散實驗提供 1-3 種的混合氣體，真空度可達 10-2torr。

產品型號	開啟式單溫區(qū)低真空 CVD 系統(tǒng) OTF-1200X-F3LV
安裝條件	本設備要求在海拔 1000m 以下，溫度 25℃±15℃ ，濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水：不需要 2、電： AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內需充注氣體，需自備氣瓶氣源 4、工作臺：尺寸 600mm×600mm×700mm ，承重 150kg 以上 5、通風裝置：需要
主要特點	1、雙層殼體，配有循環(huán)風冷系統(tǒng)，殼體溫度<60℃。 2 、內爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層，可以提高加熱效率，同時延長使用壽命。 3 、采用 PID 控制器，可以設置 30 段升降溫程序。 4、設有超溫及斷偶報警功能。
	5 、已通過 CE 認證。
技術參數(shù)	1 、電源： AC 220V 50Hz/60Hz 2.5KW 2、石英管：外徑 ?80mm ，內徑 ?75mm ，長 1000mm