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高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV是由單溫區(qū)管式爐、兩路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組成，工作溫度可達(dá)1200℃，混氣系統(tǒng)可以對(duì)兩種氣體進(jìn)行精確的混氣，然后導(dǎo)入管式爐內(nèi)部，本系統(tǒng)極限真空度可達(dá)10-5torr

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：高真空 CVD 系統(tǒng) OTF-1200X-80-C2HV 是由單溫區(qū)管式爐、兩路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組成，工作溫度可達(dá) 1200℃ ，混氣系統(tǒng)可以對(duì)兩種氣體進(jìn)行精確的混氣，然后導(dǎo)入管式爐內(nèi)部，本系統(tǒng) 極限真空度可達(dá) 10-5 torr。

產(chǎn)品型號(hào)	高真空 CVD 系統(tǒng) OTF-1200X-80-C2HV
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔 1000m 以下，溫度 25℃±15℃ ，濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水：不需要 2、電： AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氣體，需自備氣瓶氣源 4、工作臺(tái)：尺寸 1600mm×600mm×700mm ，承重 150kg 以上 5、通風(fēng)裝置：需要
主要特點(diǎn)	1、雙層殼體，配有風(fēng)冷系統(tǒng)，殼體溫度<60℃。 2 、內(nèi)爐膛表面涂有美國(guó)進(jìn)口氧化鋁涂層，可以提高反射率和保護(hù)爐膛潔凈度。 3 、采用 PID 控制器，可以設(shè)置 30 段升降溫程序。 4 、質(zhì)量流量系統(tǒng)采用 316 不銹鋼制作而成。
	5 、已通過 CE 認(rèn)證。
技術(shù)參數(shù)	管式爐 1 、電源： AC 220V 50Hz/60Hz

	2、石英管：外徑 ?80mm ，內(nèi)徑 ?75mm ，長(zhǎng) 1000mm 3、加熱元件：摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲（表面涂有氧化鋯）
	4、加熱區(qū)域： 440mm 5、恒溫區(qū)域： 150mm 6 、工作溫度： 1200℃ ，連續(xù)工作 1100℃ 7、升降溫速率： 20℃/min 8、控溫精度：± 1℃
	9、熱電偶： K 型
	高真空機(jī)組 1、殼體： 600mm×600mm×700mm ，承重 275kg 2、真空泵：德國(guó) Pfeiffer 真空泵 3、顯示屏： LCD 數(shù)字顯示 4、抽氣速率： N2-33L/s ，He-39L/s ，H2-32L/s 5、工作范圍： 1000mtorr-10-7mtorr 6、極限： 10-8mtorr （無泄漏）
	質(zhì)量流量混氣系統(tǒng) 1、電源：單相 AC208V-240V 50Hz/60Hz 2、功率： 18W 3、尺寸： 600mm×600mm×700mm 4、混氣箱： ?80mm×120mm