詳細摘要： DH-GCVD系統(tǒng)兼容真空及常壓兩種主流的生長模式，可采用計算機自動控制，工作在常壓氣氛或真空條件，通過控制，可以在10-3Torr—760Torr之間的任意氣...
產(chǎn)品型號：所在地：杭州市更新時間：2025-05-28 在線留言印前設(shè)備 印刷機械 印后設(shè)備 裝訂設(shè)備 廣告設(shè)備 辦公設(shè)備 印刷機械配件 其它印刷相關(guān)器材 其它印刷設(shè)備
杭州大華儀器制造有限公司
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詳細摘要： DH-GCVD系統(tǒng)兼容真空及常壓兩種主流的生長模式，可采用計算機自動控制，工作在常壓氣氛或真空條件，通過控制，可以在10-3Torr—760Torr之間的任意氣...
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詳細摘要： 真空蒸發(fā)鍍膜與手套箱聯(lián)合系統(tǒng)的用戶群體為科研院所及實驗室，將真空蒸發(fā)系統(tǒng)工作室置于Glovebox無水、無氧、無塵的超純環(huán)境中，PVD與Glovebox（手套箱...
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詳細摘要： DH-450系列高真空鍍膜機為箱式前開門電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，采用系統(tǒng)框架，結(jié)構(gòu)緊湊，外觀更漂亮，使用更安全
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詳細摘要： 應(yīng)用領(lǐng)域：電子束蒸發(fā)可以蒸發(fā)高熔點材料，比一般電阻加熱蒸發(fā)熱效率高、束流密度大、蒸發(fā)速度快，制成的薄膜純度高、質(zhì)量好，厚度可以較準確地控制，可以廣泛應(yīng)用于制備高...
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詳細摘要： 應(yīng)用領(lǐng)域：系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級的單層及多層功能膜和復(fù)合膜,可鍍金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其它化學(xué)反應(yīng)膜等
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詳細摘要： 應(yīng)用領(lǐng)域：適用于實驗室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池、有機膜等,用于鍍制低熔點金屬及合金材料薄膜，單層/多層/復(fù)合膜，例：銅、鎂、鋁、金、銀...
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詳細摘要： 應(yīng)用領(lǐng)域：該系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級的單層及多層功能膜和復(fù)合膜,可鍍金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其它化學(xué)反應(yīng)膜等
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詳細摘要： 應(yīng)用領(lǐng)域：適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Al、Au、Ag、Cu等），也可蒸鍍各種氧化物材料
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詳細摘要： 應(yīng)用領(lǐng)域：TablePVD-15一款小型電阻蒸發(fā)鍍膜儀，主要特點是設(shè)備體積小，結(jié)構(gòu)簡單緊湊易于操作，適用于實驗室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、鈣鈦礦太陽能電池、鋰電...
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詳細摘要： 應(yīng)用領(lǐng)域：本裝置是磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，該系統(tǒng)兼容直流和射頻濺射源，可濺射金屬、非金屬及化合物薄膜(如：ITO)等；廣泛應(yīng)用于科研院所、實驗室制備單層或多層薄膜，以...
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詳細摘要： DH2005:DH2006:裝置包括可拆卸的氣體放電管、測量系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、進氣系統(tǒng)和水冷系統(tǒng)等部分組成
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詳細摘要： 裝置將13.560MHz射頻源加至反應(yīng)室外的電感線圈,用電感耦合方式激勵氣體,使其放電產(chǎn)生等離子體.這種方式具有放電效率高、無電極放電污染的特點,并可以獲得純凈...
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詳細摘要： 微波源產(chǎn)生2.45GHz的電磁波，沿矩形波導(dǎo)管傳輸，在諧振腔內(nèi)的微波天線及其噴嘴正上方的波導(dǎo)開孔處擊穿氣體放電，產(chǎn)生常壓微波射流（MPJ）
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詳細摘要： 本裝置由公司和武漢工程大學(xué)聯(lián)合研制，由微波源、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、微波傳輸及微波諧振腔等部分組成
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詳細摘要： 采用微電腦PLC控制，可自動控制整機運行，全功能防錯操作系統(tǒng)，電氣部分均為國際品牌，保證機器工作穩(wěn)定，壽命長久
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詳細摘要： 用于測試半導(dǎo)體材料電阻率及方塊電阻(薄層電阻)、功能材料暗電導(dǎo)和光電導(dǎo)及溫度的變化的特性
產(chǎn)品型號：所在地：杭州市更新時間：2023-05-19 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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