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MiniLab-60T PVD 薄膜沉積系統(tǒng)

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  真空鍍膜設(shè)備與材料制備系列

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產(chǎn)品簡介

應(yīng)用領(lǐng)域：適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池、有機(jī)膜等,用于鍍制低熔點(diǎn)金屬及合金材料薄膜，單層/多層/復(fù)合膜，例：銅、鎂、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等；用于太陽能電池、LED的研究和實(shí)驗(yàn)

詳細(xì)介紹

應(yīng)用領(lǐng)域：

適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池、有機(jī)膜等 , 用于鍍制低熔點(diǎn)金屬及合金材料薄膜，單層 / 多層 / 復(fù)合膜，例：銅、鎂、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等；用于太陽能電池、LED 的研究和實(shí)驗(yàn)。用于有機(jī)材料等蒸發(fā)；鍍制非金屬 / 化合物等材料薄膜等

MiniLab 60G熱蒸發(fā).jpg

基本配置：

◆真空腔室： D 型圓筒形，尺寸約 ф450×H450mm，前開門結(jié)構(gòu)；采用鉸鏈、鋁制前門，手動，上下 2 個(gè)杠桿把手，膠圈密封，腔體內(nèi)表面采用電解拋光處理；外表面采用拉絲拋光，無擦傷及劃痕。

◆抽氣系統(tǒng)：采用復(fù)合分子泵 + 直聯(lián)旋片泵作為真空抽氣系統(tǒng)；主抽泵：分子泵抽速≥ 1200L/S，氮?dú)鈮嚎s比≥ 109 ；前級泵：VRD-30 機(jī)械泵及電磁閥，抽速：8L/S 主抽閥： CCQ-200 超高真空氣動插板閥

* 真空系統(tǒng)可以升級為進(jìn)口分子泵和渦旋干泵。

◆真空測量：數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)： “兩低一高"全量程數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)；

* 真空測量可以升級為進(jìn)口全量程冷陰極真空計(jì)

◆極限真空：<5×10-5Pa

◆恢復(fù)真空：<6.7×10-4Pa(< 45 min)

◆蒸發(fā)源（選配）：金屬蒸發(fā)源：4 組金屬蒸發(fā)源在腔體底部呈發(fā)散形分布 , 相互間擋板隔開 , 避免交叉污染，兼容金屬和有機(jī)材料蒸鍍；束源爐：4 組有機(jī)蒸發(fā)源，坩堝容量（2CC），角度 0-30 度可調(diào)，溫度：700℃，控制精度 ±0.5℃；

◆蒸發(fā)電源：采用恒壓、恒流真空鍍膜電源，功率 2.4Kw；電流調(diào)節(jié)精度 0.01A，電壓調(diào)節(jié)精度 0.001V，數(shù)量：2 臺有機(jī)物蒸發(fā)電源：采用 10V30A 穩(wěn)流電源，電流調(diào)節(jié)精度：0.01A，最小分辨率：0.1mV，0.1mA 數(shù)量：2 臺