中普尼實業(yè)集團（海南）有限公司
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產(chǎn)品型號
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地海口市
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更新時間：2023-06-29 12:42:56瀏覽次數(shù)：453次
聯(lián)系我時，請告知來自 包裝印刷網(wǎng)產(chǎn)品用途與特點：1、本產(chǎn)品利用低能量平行Ar﹢離子束對基片表面進行轟擊，將基片表面未覆蓋掩膜的部分濺射出，從而達到選擇刻蝕的目的
產(chǎn)品用途與特點：
1、本產(chǎn)品利用低能量平行 Ar﹢離子束對基片表面進行轟擊，將基片表面未覆蓋掩膜的部分濺射出，從而達到選擇刻蝕的目的。離子束刻蝕是純物理刻蝕過程，在各種常規(guī)刻蝕方法中具有分辨率，陡直性特點，并且可以對絕大部分材料進行刻蝕，例如：金屬、合金、氧化物、化合物、混合材料、半導體、絕緣體、超導體等。
2、設備采用圓形離子源，自轉(zhuǎn)且角度可調(diào)水冷工作臺。
3、主要應用于微電子、光電子、通訊、微機械、新材料、新能源等領域的器件研發(fā)和制造。
4、產(chǎn)品適合于科研院所、大專院校、中小型生產(chǎn)企業(yè)的科研及教學。
產(chǎn)品主要技術(shù)指標：
1、真空系統(tǒng)：分子泵機組。
2、離子源形狀：圓形，平柵、聚焦柵。
3、離子源類型：直流離子源、射頻離子源。
4、中和方式：燈絲、等離子體橋。
5、離子源口徑：5cm、8cm、11cm、12cm、15cm、16cm 。
6、樣品有效刻蝕尺寸：Ф1 英寸～Ф4 英寸。
7、樣品臺轉(zhuǎn)速：5—30rpm 。
8、刻蝕角度調(diào)節(jié)：0～90 度。
9、工作臺冷卻溫度：10℃ 。
10、刻蝕不均勻性：±2%～±5% 。
11、刻蝕速率：10nm～200nm/min。
12、關(guān)鍵部件：可選配進口、國產(chǎn)。
13、操作方式：可選擇手動、全自動控制模式。
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