詳細摘要: 簡要描述:低真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備是一種化學(xué)氣相沉積技術(shù),利用熱能在基板表面上引發(fā)前驅(qū)氣體的反應(yīng)。表面的反應(yīng)是形成固化材料的原因。
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言印前設(shè)備 印刷機械 印后設(shè)備 裝訂設(shè)備 廣告設(shè)備 辦公設(shè)備 印刷機械配件 其它印刷相關(guān)器材 其它印刷設(shè)備
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詳細摘要: 簡要描述:低真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備是一種化學(xué)氣相沉積技術(shù),利用熱能在基板表面上引發(fā)前驅(qū)氣體的反應(yīng)。表面的反應(yīng)是形成固化材料的原因。
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:電漿輔助式化學(xué)氣相沉積設(shè)備是一種使用電漿的化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù),可為沉積反應(yīng)提供一些能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比,PECVD可以在較低的溫度下沉...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:化學(xué)氣相沉積為一種薄膜沉積方法,其中將基材暴露于一種或多種揮發(fā)性氣體中,在基板表面上反應(yīng)或分解以生成所需的薄膜沉積物。這種方法通常用于在真空環(huán)境中制造...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:PECVD等離子沉積設(shè)備DEPOLAB 200根據(jù)其模塊化設(shè)計,PECVD Depolab 200可升級為更大的真空泵組,低頻射頻源和更多的氣路。
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:帶預(yù)真空室的化學(xué)氣相沉積設(shè)備SI 500 PPD的特色是預(yù)真空室和干泵裝置,用于無油、高產(chǎn)量和潔凈的化學(xué)氣相沉積過程。
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:等離子沉積設(shè)備SI 500 D低刻蝕速率,高擊穿電壓,低應(yīng)力、不損傷襯底以及在低于100#176;C的沉積溫度下的低界面態(tài)密度,使得所沉積的薄膜具有優(yōu)...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PECVD沉積設(shè)備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標準的化學(xué)氣相...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備,以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預(yù)真...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:SENTECH二維材料刻蝕能夠在低溫100C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層,在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體,而不受紫外線輻射或離子轟擊。
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:原子層沉積設(shè)備:真遠程等離子體源能夠在低溫100C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層,在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體,而不受紫外線輻射或離子轟...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:PECVD等離子沉積設(shè)備Depolab 200是SENTECH基本的等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)設(shè)備,它結(jié)合了用于均勻薄膜沉積的平行板電極設(shè)...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:帶預(yù)真空室的化學(xué)氣相沉積設(shè)備PECVD沉積設(shè)備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:等離子沉積設(shè)備低刻蝕速率,高擊穿電壓,低應(yīng)力、不損傷襯底以及在低于100#176;C的沉積溫度下的低界面態(tài)密度,使得所沉積的薄膜具有優(yōu)異的性能。
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:X射線探傷機X 射線工業(yè)設(shè)備用于控制產(chǎn)品質(zhì)量,如應(yīng)用于汽車、航空航天、管件、研究所和食品等不同行業(yè)。此外,制造的 X 射線設(shè)備也應(yīng)用于醫(yī)療和安檢部門。...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:徠卡Leica顯微鏡DM6M的技術(shù)參數(shù)徠卡Leica顯微鏡DM4B屬于正置數(shù)字科研生物顯微鏡,是生物研究和實驗室應(yīng)用的理想之選,該顯微鏡可以連接照相設(shè)...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:徠卡DM2000三目正置生物顯微鏡組織觀察徠卡DM2000屬于徠卡正置顯微鏡中熒光系列生物顯微鏡,屬于一臺適用于生物學(xué)常規(guī)和研究應(yīng)用的正置生物顯微鏡,...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:徠卡Leica顯微鏡DM750經(jīng)銷商徠卡Leica顯微鏡DM750是一臺常規(guī)的正置生物顯微鏡,多用于教學(xué)和實驗時的研究,在教學(xué)方面,徠卡DM750配置...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:徠卡Leica顯微鏡DM1000的維護與保養(yǎng)徠卡Leica顯微鏡DM1000在使用過程中難免會由于樣品積淀產(chǎn)生污垢,或者因為存放環(huán)境的不合理,導(dǎo)致顯微...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:徠卡Leica顯微鏡S9i的技術(shù)參數(shù)徠卡體視顯微鏡S9i體視顯微鏡在不斷提高生產(chǎn)的基礎(chǔ)上降低了缺陷率,滿足廣大用戶的需求,隨著新一代的Greenoug...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2025-01-01 在線留言詳細摘要: 簡要描述:徠卡Leica顯微鏡DM6M應(yīng)用領(lǐng)域徠卡DM6M金相顯微6孔位電動物鏡轉(zhuǎn)盤,配接的32mm直徑工業(yè)物鏡以及可實現(xiàn)自動明場、偏光、暗場、干涉的觀察方式等...
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