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電漿原子層沉積設(shè)備

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商鋪產(chǎn)品：557條

所在地區(qū)：北京北京市

聯(lián)系人：汪經(jīng)理

產(chǎn)品簡介

簡要描述：電漿原子層沉積設(shè)備是一種基于常規(guī)ALD的方法，其利用電漿作為裂化前驅(qū)物材料的條件，而不是僅依靠來自加熱基板的熱能。

詳細(xì)介紹

電漿原子層沉積設(shè)備（PEALD）是一種基於常規(guī)ALD的方法，其利用電漿作為裂化前驅(qū)物材料的條件，而不是僅依靠來自加熱基板的熱能。 製程中只需靠電漿來進(jìn)行裂化前驅(qū)物材料，無需高溫來傳遞必要的活化能。SYSKEY的系統(tǒng)可以精準(zhǔn)的控制電漿與ALD的製程，薄膜的厚度和均勻度皆+/- 1％。


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電漿原子層沉積設(shè)備參數(shù)：

應(yīng)用領(lǐng)域腔體

  • 高k值之氧化物。

  • OLED和矽太陽能電池的鈍化層。

  • 微機(jī)電系統(tǒng)。

  • 納米電子學(xué)。

  • 納米孔結(jié)構(gòu)薄膜。

  • 光學(xué)薄膜。

  • 薄膜封裝技術(shù)。

  • 鋁腔或者不銹鋼腔體，其佔(zhàn)地面積小，可縮短製程時(shí)間。

  • 通過使用水冷系統(tǒng)、加熱器或加熱包來控制腔體溫度。




配置和優(yōu)點(diǎn)選件

  • 客製化的基板尺寸，直徑可達(dá)300mm晶圓。

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±1％。

  • 較高的深寬比和複雜結(jié)構(gòu)具有相同特性之薄膜沉積。

  • 遠(yuǎn)程等離子體電漿源。

  • 前驅(qū)物材料可多達(dá)6種並可分別加熱到200°C。

  • 快速脈衝的氣體輸送閥，反應(yīng)時(shí)間為10毫秒。

  • 通過穩(wěn)定的溫度控制，將基板載盤加熱到800°C。

  • 材料：Al2O3, HfO2, SiO2, TiO2, Ta2O5, ZnO, AZO, HfO2, SiO2 , TiO2, GaO2, AlN, SiN, Pt…等等。

  • 可以與傳送腔、機(jī)械手臂和手套箱整合在一起。

  • 橢圓偏振光譜儀。

  • 高真空傳送系統(tǒng)。






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應(yīng)用領(lǐng)域腔體

  • 高k值之氧化物。

  • OLED和矽太陽能電池的鈍化層。

  • 微機(jī)電系統(tǒng)。

  • 納米電子學(xué)。

  • 納米孔結(jié)構(gòu)薄膜。

  • 光學(xué)薄膜。

  • 薄膜封裝技術(shù)。

  • 鋁腔或者不銹鋼腔體，其佔(zhàn)地面積小，可縮短製程時(shí)間。

  • 通過使用水冷系統(tǒng)、加熱器或加熱包來控制腔體溫度。




配置和優(yōu)點(diǎn)選件

  • 客製化的基板尺寸，直徑可達(dá)300mm晶圓。

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±1％。

  • 較高的深寬比和複雜結(jié)構(gòu)具有相同特性之薄膜沉積。

  • 遠(yuǎn)程等離子體電漿源。

  • 前驅(qū)物材料可多達(dá)6種並可分別加熱到200°C。

  • 快速脈衝的氣體輸送閥，反應(yīng)時(shí)間為10毫秒。

  • 通過穩(wěn)定的溫度控制，將基板載盤加熱到800°C。

  • 材料：Al2O3, HfO2, SiO2, TiO2, Ta2O5, ZnO, AZO, HfO2, SiO2 , TiO2, GaO2, AlN, SiN, Pt…等等。

  • 可以與傳送腔、機(jī)械手臂和手套箱整合在一起。

  • 橢圓偏振光譜儀。

  • 高真空傳送系統(tǒng)。








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