氧化鋁分為煅燒氧化鋁和普通工業(yè)氧化鋁，煅燒氧化鋁是生產(chǎn)仿古磚的原料，而工業(yè)氧化鋁則可用于生產(chǎn)微晶石，在傳統(tǒng)釉料中，氧化鋁常用作增白。近年來仿古磚和微晶石受到了市場青睞，氧化鋁的用量也是逐年增長。據(jù)市場調(diào)查：作為陶瓷磚生產(chǎn)重要原料之的氧化鋁，即使是在陶瓷行業(yè)的市場形勢普遍低迷，眾多陶瓷化工原料的價(jià)格漲幅不定之時(shí)，但氧化鋁的價(jià)格始終保持在個穩(wěn)定的區(qū)間內(nèi)，很少受到陶瓷行業(yè)低迷所影響，可見氧化鋁在陶瓷中的作用是。
因此，氧化鋁陶瓷在陶瓷行業(yè)中應(yīng)運(yùn)而生--氧化鋁陶瓷是種以Al₂O₃為主要原料,以剛玉為主晶相的陶瓷材料.因其具有機(jī)械強(qiáng)度高,硬度大,高頻介電損耗小,高溫絕緣電阻高,耐化學(xué)腐蝕性和導(dǎo)熱性良好等優(yōu)良綜合技術(shù)性能等優(yōu)勢。
北京彼奧德PCA-1200科研專用化學(xué)吸附儀，準(zhǔn)確的脈沖定量，高精度耐腐蝕的TCD檢測器、質(zhì)量流量計(jì)，確保數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性和數(shù)據(jù)穩(wěn)定性。多段程序控溫，更合理的完成程序升溫反應(yīng)和等溫反應(yīng)。貫通式強(qiáng)冷系統(tǒng)，確保溫度準(zhǔn)確性和降溫升溫速率。
功能展示：
①程序溫度反應(yīng)：TPD、TPR、TPO、 TPRx
②應(yīng)用功能：催化劑等功能材料的表面金屬分散度、活性金屬面積、利用脈沖化學(xué)吸附定量酸性強(qiáng)度及堿性強(qiáng)度（脈沖滴定）、等溫反應(yīng)；即酸（堿）性中心數(shù)量、酸（堿）度、氫在金屬表面的吸附、氧化碳在金屬表面的吸附、氧在金屬表面的吸附、氮在金屬表面的吸附、乙烯和乙炔在金屬表面的吸附、NH3的程序升溫脫附。
應(yīng)用保障配置參數(shù)：
1、VICI兩位六通閥，用于脈沖滴定法分析金屬面積和分散度測定（脈沖定量體積1-3ml可選）
2、配置蒸汽發(fā)生器可進(jìn)行惰性載氣中液體蒸汽包括有機(jī)蒸汽（例如吡啶、苯）的吸附
3、蒸汽冷阱設(shè)于樣品管和檢測器之間，以去除雜質(zhì)氣；物理吸附冷阱般用液氮。
4、四臂PT鍍金TCD 檢測器，具有的抗氧化和抗氨腐蝕的能力，穩(wěn)定的電流控制保證了基線穩(wěn)定性和重現(xiàn)性信號
5、不銹鋼管路具有大化的化學(xué)適應(yīng)性是適用于廣泛的氣體。
6、標(biāo)準(zhǔn)高溫石英樣品池可內(nèi)置熱電偶，提供準(zhǔn)確的樣品溫度測量，并做溢流道設(shè)計(jì)，可用于各種尺寸的顆粒和粉體（在定壓力條件下選用不銹鋼反應(yīng)器）
7、可連接質(zhì)譜儀、色譜儀、紅外或其他檢測器; 色譜/質(zhì)譜連接方式： 3 種（a: 在樣品管后端; b: 在冷阱之后，檢測器之前; c: 在檢測器之后）
8、操作軟件基于Windows操作系統(tǒng)開發(fā)，軟件簡單易學(xué)，使用方便。軟件支持鼠標(biāo)點(diǎn)擊操作，打印機(jī)和遠(yuǎn)程控制，直觀顯示每個流程的原理圖直觀顯示在屏幕上,能夠直觀了操作流程可進(jìn)展；有峰編輯軟件，提供峰選擇、編輯、積分和數(shù)據(jù)平滑處理，并能手動標(biāo)注，數(shù)據(jù)能夠?qū)隕XCEL或者WORD、PNG等。
9、安控系統(tǒng)：高精度可燃?xì)怏w預(yù)警
脈沖滴定數(shù)據(jù)圖
技術(shù)參數(shù)：
載氣：N2,Ar,He,H2等
反應(yīng)氣：H2, O2, CO, NO, SO2, NH3，H2S等
氣體入口：6個（可擴(kuò)展至10個，多路載氣、多路反應(yīng)氣；混合器內(nèi)置）
液路入口：1個（可選配蒸汽發(fā)生裝置）
溫度控制（管路、蒸汽發(fā)生器、爐子、TCD溫度均數(shù)字可控）
爐子溫度：室溫~1200℃（加冷阱可以擴(kuò)展到-100~1200℃）
爐子精度：0.2%FS
升溫速率：0~100℃/min（可實(shí)現(xiàn)分段控溫）
0~500℃（升溫速率0~100℃）
500℃-750℃（升溫速率0~50℃）
750℃-1000℃（升溫速率0~30℃）
1000℃-1200℃（升溫速率0~20℃）
蒸汽發(fā)生器：0~300℃（可選，溫度上限可設(shè)置，防止過熱）
TCD溫度：0~300℃（可設(shè)置溫度上限，防止過熱）
TCD恒溫精度：0.1%FS
管路防冷凝：0~250℃.確保儀器不銹鋼管線、閥門和TCD探測器無“冷點(diǎn)”（可選，溫度上限可設(shè)置，防止過熱）
流量控制：質(zhì)量流量控制器，流量范圍 0~100sccm（ml/min）
氣路控制系統(tǒng)：高精度十二位體電磁閥控制模塊
分析壓力：常壓---8MPa（可選）精度：±0.3% Of Reading
樣品管：高溫化學(xué)吸附石英樣品管或316L不銹鋼反應(yīng)器
空氣制冷：可升降電爐+貫穿式強(qiáng)風(fēng)冷系統(tǒng)，可快速降溫，從高溫
到100℃ 冷卻時(shí)間< 25 分鐘
重現(xiàn)性：0.5%
樣品熱電偶：在樣品管內(nèi)或反應(yīng)器內(nèi)
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