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薄膜測(cè)厚儀

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品名稱：膜厚儀主要技術(shù)指標(biāo)：測(cè)量范圍（VIS）：15nm—100μm測(cè)量重復(fù)性（RMS）：0.086nm測(cè)量精度（與橢偏儀對(duì)比）：0.25nm測(cè)量層數(shù)：大于3層使用光源：鹵素?zé)?/p>

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品名稱：膜厚儀
主要技術(shù)指標(biāo)：
測(cè)量范圍（VIS）：15nm—100μm
測(cè)量重復(fù)性（RMS）：0.086nm
測(cè)量精度（與橢偏儀對(duì)比）：0.25nm
測(cè)量層數(shù)：大于3層
使用光源：鹵素?zé)簦?/span>
入射角度：90°
測(cè)試材料：透明或半透明薄膜材料；
光斑尺寸：20μm—3mm（可選）
測(cè)量時(shí)間：100ms—4ms；
通信接口：USB2.0
產(chǎn)品特點(diǎn)：
采用光譜干涉原理進(jìn)行測(cè)量，具有非接觸、無(wú)破壞、快速等特點(diǎn)；可在真空環(huán)境使用；可與大行程工件臺(tái)配合，實(shí)現(xiàn)大面積膜厚自動(dòng)測(cè)量。測(cè)試數(shù)據(jù)：設(shè)備組成：測(cè)試主機(jī)、光纖、校正件、測(cè)量頭、夾持裝置、設(shè)備箱、手提電腦。