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真空鍍銅蒸鍍儀

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

真空鍍銅蒸鍍儀KT-Z1650CVD是一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)。廣泛應(yīng)用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等。鍍銅可打底用，增進(jìn)電鍍層附著能力，及抗蝕能力。

詳細(xì)介紹

鄭科探小型蒸鍍儀

-熱蒸發(fā)源：電阻式熱蒸發(fā)舟，交流電源；

-腔體：不銹鋼或石英腔體可供客戶選擇；

-泵：前級(jí)干泵，分子泵；

工藝控制：PC/PLC機(jī)制的自動(dòng)控制、數(shù)據(jù)處理、工藝記憶儲(chǔ)存；-

襯底固定：?jiǎn)我r底固定，客戶化襯底固定方式；

- 襯底夾具：加熱，冷卻，偏置，旋轉(zhuǎn)等；

- 保護(hù)樣品：配有樣品擋板，可手動(dòng)或自動(dòng)開(kāi)/關(guān)擋板，達(dá)到及時(shí)遮擋樣品效果；

1.鍍銅：打底用，增進(jìn)電鍍層附著能力，及抗蝕能力。

2.鍍鎳：打底用或做外觀，增進(jìn)抗蝕能力及耐磨能力，(其中化學(xué)鎳為現(xiàn)代工藝中耐磨能力超過(guò)鍍鉻)。

3.鍍金：改善導(dǎo)電接觸阻抗，增進(jìn)信號(hào)傳輸。

4.鍍鈀鎳：改善導(dǎo)電接觸阻抗，增進(jìn)信號(hào)傳輸，耐磨性高于金。

5.鍍錫鉛：增進(jìn)焊接能力，快被其他替物取代(因含鉛現(xiàn)大部分改為鍍亮錫及霧錫)。銅顆粒

。銅顆粒

真空鍍銅蒸鍍儀KT-Z1650CVD鍍樣品

微信圖片_20220419161717.png

真空鍍銅蒸鍍儀KT-Z1650CVD技術(shù)資料

控制方式	7寸人機(jī)界面手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制
加熱方式	數(shù)字式功率調(diào)整器
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1200W
輸出電壓電流	電壓≤12V 電流≤120A
真空度	機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤10^-3Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
樣品臺(tái)	可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速	8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離	70-140mm
蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié)	≤1800℃
支持蒸發(fā)坩堝類型	鎢絲藍(lán) 帶坩堝鎢絲藍(lán) 鎢舟碳繩
預(yù)留真空接口	KF25抽氣口 KF16真空計(jì)接口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口
可選配擴(kuò)展	機(jī)械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa）數(shù)顯真空計(jì)（測(cè)量范圍大氣壓到0.1Pa）分子泵機(jī)組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）

技術(shù)支持&服務(wù)：

1. 技術(shù)支持：在合同簽訂之前，我們的專業(yè)工程師會(huì)在充分了解客戶需求的前提下，為客戶做出*的選型和方案設(shè)計(jì)，使客戶充分了解并理解產(chǎn)品技術(shù)指標(biāo)、性能用途、使用場(chǎng)合、安全注意事項(xiàng)等，以幫助客戶做出正確的選擇。

2. 安裝與培訓(xùn)：在產(chǎn)品使用前，我們會(huì)派專業(yè)工程師為您提供現(xiàn)場(chǎng)技術(shù)支持、培訓(xùn)及演示服務(wù)。

3. 產(chǎn)品質(zhì)保：我們對(duì)產(chǎn)品提供12個(gè)月的質(zhì)保期，在質(zhì)保期內(nèi)發(fā)生設(shè)備或配件損壞由公司負(fù)責(zé)賠償或免費(fèi)維修。（耗材和易損件除外）

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