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小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD

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更新時間：2026-05-17 11:26:24瀏覽次數(shù)：56次

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鄭州科探儀器設備有限公司

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產(chǎn)品簡介

小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD是鄭州科探儀器設備有限公司生產(chǎn)，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面。軟件自動操控、工藝儲存，高性價比，非常適合實驗室科研使用。稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等。

詳細介紹

一、技術原理：

（1）小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。

（2）通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下為蒸發(fā)鍍膜設備的示意圖。

二、真空度越高越不易氧化越接近金屬本色：

★玻璃鐘罩真空腔室，最直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現(xiàn)象觀察；

★復合分子泵和直聯(lián)旋片泵，大抽速準無油真空系統(tǒng)（分子泵抽速≥400L/S）；

★兩組水冷式蒸發(fā)電極，可長時間穩(wěn)定工作，兼容金屬材料與有機材料的蒸發(fā)源設計；

★專業(yè)真空蒸發(fā)電源，數(shù)顯工作電流和電壓，恒流輸出；

★可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；

★襯底可選擇加熱或水冷，源基距≥300mm；

★可調(diào)速旋轉靶臺使薄膜更均勻；

★可沉積金屬（Au,Ag,Al,Ca,Cu,Mg,Fe,Cr,Ni等）、非金屬、化合物（MoO3,LiF等）及有機物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；

★7寸顯示器定時定點調(diào)節(jié)電流，達到控制功率效果；

★具有記憶儲存功能，直接調(diào)出已儲存的數(shù)據(jù)進行鍍膜達到同樣工藝效果；

★配置了靶臺擋板，可手動調(diào)節(jié)或自動調(diào)節(jié)擋板，及時遮擋樣品，保證樣品效果；

三、技術支持&服務：

1.技術支持：在合同簽訂之前，我們的專業(yè)工程師會在充分了解客戶需求的前提下，為客戶做出*的選型和方案設計，使客戶充分了解并理解產(chǎn)品技術指標、性能用途、使用場合、安全注意事項等，以幫助客戶做出正確的選擇。

2.安裝與培訓：在產(chǎn)品使用前，我們會派專業(yè)工程師為您提供現(xiàn)場技術支持、培訓及演示服務。

3.產(chǎn)品質(zhì)保：我們對產(chǎn)品提供12個月的質(zhì)保期，在質(zhì)保期內(nèi)發(fā)生設備或配件損壞由公司負責賠償或免費維修。（耗材和易損件除外）

4.終身維護：我們對提供的產(chǎn)品提供終身服務，對于超過質(zhì)保期限的維修、維護僅收取材料費，免除一切人工費用。

以下是不同真空度不同鍍膜時間鍍銅樣品圖

原樣品沒有鍍膜 115A 100秒機械泵

115A 100秒分子泵抽12分鐘 115A 120秒分子泵抽20分鐘

四、小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD技術資料：

控制方式	7寸人機界面手動自動模式切換控制
加熱方式	數(shù)字式功率調(diào)整器
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1200W
輸出電壓電流	電壓≤12V 電流≤120A
真空度	機械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤10^-3Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
樣品臺	可旋轉φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺轉速	8轉/分鐘
樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離	70-140mm
蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié)	≤1800℃
支持蒸發(fā)坩堝類型	鎢絲藍帶坩堝鎢絲藍鎢舟碳繩
預留真空接口	KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
可選配擴展	機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa）數(shù)顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa）分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）