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HMDS預(yù)處理涂膠烤箱真空烘箱干燥箱

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參考價: ￥ 99999

訂貨量: ≥1 臺

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號PVD-090-HMDS

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所在地上海市

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更新時間：2024-05-13 15:50:07瀏覽次數(shù)：220次

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上海實貝儀器設(shè)備廠

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商鋪產(chǎn)品：35條

所在地區(qū)：上海上海市

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產(chǎn)品簡介

HMDS預(yù)處理涂膠烤箱真空烘箱干燥箱
HMDS用于光刻晶片涂膠工藝，自動化工藝流程，操作簡單。在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)。

詳細(xì)介紹

HMDS預(yù)處理涂膠烤箱真空烘箱干燥箱

HMDS預(yù)處理真空烘箱

一、預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，而涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝顯得更為必要，尤其在所刻線條比較細(xì)的時候，任何一個環(huán)節(jié)出現(xiàn)一點紕漏，都可能導(dǎo)致光刻的失敗。在涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而晶片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，如果在晶片表面直接涂膠的話，會造成光刻膠和晶片的黏合性較差，甚至造成局部的間隙或氣泡，涂膠厚度和均勻性都受到影響，進(jìn)而會影響了光刻效果和顯影，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和晶片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕，所以涂膠工藝中引入一種化學(xué)制劑HMDS(六甲基二硅氮甲烷，英文全名Hexamethyldisilazane)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到晶片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物，是一種表面活性劑，它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

二、產(chǎn)品結(jié)構(gòu)與性能

2.1產(chǎn)品結(jié)構(gòu)：

1．設(shè)備外殼采用優(yōu)質(zhì)冷軋鋼板表面靜電噴塑，內(nèi)膽316L不銹鋼材料制成；無縫不銹鋼加熱管,均勻分布在內(nèi)膽外壁，內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置；鋼化、雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內(nèi)物品實驗情況。

2．箱門閉合松緊能調(diào)節(jié)，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內(nèi)保持高真空度。

3．溫度微電腦PID控制,系統(tǒng)具有自動控溫、定時、超溫報警等,LCD液晶顯示,觸摸式按鍵,控溫準(zhǔn)確可靠。

4．智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時間。

5．HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計，使真空箱密封性能確保HMDS氣體無外漏顧慮。

6．無發(fā)塵材料，適用百級光刻間凈化環(huán)境使用。

三、HMDS烘箱技術(shù)參數(shù)

規(guī)格型號	PVD-090-HMDS	PVD-210-HMDS
容積（L）	90L	210L
控溫范圍	RT+10～250℃
溫度分辨率	0.1℃
控溫精度	±0.5℃
加熱方式	內(nèi)腔體外側(cè)加溫
隔板數(shù)量	2PCS	3PCS
真空度	<133Pa（真空度范圍100～100000pa）
真空泵	抽氣速度4升／秒，型號DM4
電源/功率	AC220/50Hz，3KW	AC380V/50Hz，4KW
內(nèi)膽尺寸WDH	450×450×450	560×640×600
外形尺寸WDH	800×630×850	1220×930×1755
外形尺寸（新款）	980×655×1600	1220×930×1755