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金相磨拋機

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產(chǎn)品簡介

金相磨拋機金相樣品的制備是通過切割機、鑲嵌機和金相磨拋機來完成的,金相樣品的最終質(zhì)量由金相磨拋機測定

詳細介紹

金相磨拋機

金相樣品的制備是通過切割機、鑲嵌機和金相磨拋機來完成的,金相樣品的最終質(zhì)量由金相磨拋機測定。拋光是金相樣品制備過程中的重要部分。拋光是為了去除因磨削樣品而產(chǎn)生的磨損痕跡和變形層,并使之成為鏡面光滑的最終過程。拋光方法包括機械拋光,電解拋光,化學(xué)拋光和復(fù)合拋光。金相磨拋機的使用是目前使用泛的拋光方法。其正確的工藝和操作方法是在獲得高質(zhì)量樣品的條件下以及其他條件(例如保留邊緣和石墨以及夾雜物的保留)的條件下獲得的拋光速率。選擇可靠的金相磨拋機可以提高樣品制備的效率和質(zhì)量,減少樣品的浪費率,從而降低成本,提高經(jīng)濟效益并實現(xiàn)樣品質(zhì)量的一致高度性。

金相磨拋機運行的關(guān)鍵是設(shè)法獲得的拋光速度,以盡快去除拋光引起的損壞層。同時,拋光損傷層將不會影響最終觀察到的組織,即不會造成假組織,這兩個要求是矛盾的。前者需要使用粗磨料以確保更大的拋光速率以去除拋光損傷層,但拋光損傷層更深;因此,需要使用粗磨料。后者需要使用材料來使拋光的損傷層變淺,但是拋光速率低。解決這一矛盾的方法是將拋光分為兩個階段。首先,粗拋光是去除拋光損傷層。此階段應(yīng)具有的拋光速度。次要考慮的是由粗糙拋光引起的表面損壞,但也應(yīng)盡可能小。其次,精細拋光(或最終拋光)是為了消除由粗糙拋光引起的表面損傷并使拋光損傷最小化。

金相磨拋機種類繁多,主要由電機驅(qū)動的一組拋光盤組成。拋光光盤具有單個或多個光盤。通常使用具有兩個拋光板的雙頭拋光機。拋光盤由直徑約200mm的鑄銅或鋁制成。拋光盤安裝在主軸上(水平和垂直),并在軸承支撐下水平旋轉(zhuǎn)。其轉(zhuǎn)速為約600-1600r / min。拋光機配有換檔裝置,可以根據(jù)需要將速度調(diào)節(jié)到200-600 r / min。

近年來,隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展,中國已生產(chǎn)出多種類型的金相磨拋機。其中,有使研磨面以更復(fù)雜的軌跡運動的金相磨拋機,有以更簡單的圓形軌跡運動的金相磨拋機。根據(jù)該結(jié)構(gòu),一些樣品可以同時自動拋光,也有一些是只能一次拋光一個樣品。也有專門設(shè)計和制造的金相磨拋機,可以安裝在普通金相磨拋機上的自動拋光配件。

FR研磨拋光機-細節(jié)圖1.jpg