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奧智品光學儀器（上海）有限公司


精微影像儀MicroLine 300

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質其他

所  在  地上海市

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更新時間：2023-06-22 11:42:57瀏覽次數(shù)：399次

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商鋪產(chǎn)品：92條

所在地區(qū)：上海上海市

產(chǎn)品簡介

關鍵尺寸的自動化光學測量系統(tǒng)MicroLineTM300影像測量儀是一款高性能測量晶圓、光罩、MEMS和其他微加工設備等關鍵尺寸的自動化測量系統(tǒng)

詳細介紹

關鍵尺寸的自動化光學測量系統(tǒng)

 

 

MicroLineTM 300影像測量儀是一款高性能測量晶圓、光罩、MEMS和其他微加工設備等關鍵尺寸的自動化測量系統(tǒng)。該系統(tǒng)配備了高質量光學顯微鏡和精密移動平臺，可對200mm的晶圓上0.5µm到400µm的特征尺寸進行全自動的精密視場測量。

 

n  200 x 200mm精密X-Y平臺

n  基于視覺的自動聚焦獲得影像質量

n  自動照明可編程光強

n  用于測量透明層、不規(guī)則邊緣的線、厚膜等的強勁性能

n  可編程的序列，包括自動聚焦和關鍵尺寸測量

n  電動的6目物鏡轉換器，軟件控制

n  可選的透射照明

 

技術規(guī)格：

- 測量行程: 200 x 200 x 25mm (XYZ)

- 平臺運行: 交叉滾軸手動同軸定位和快速釋放

- 視場內(nèi)的測量精度: 0.010µm (用100x物鏡)

- 特征尺寸: 視場內(nèi)0.5µm - 400µm

- FOV測量重復性: <0.010µm on wafers (用100x物鏡)

<0.005µm on photomasks (用100x物鏡)

- 照明: 石英鹵素燈, 反射光

       自動照明

- 低噪音CCD VGA格式攝像頭

- 圖像處理60幀每秒

 

MicroLine 300的典型應用包括：

l  晶圓

l  光罩

l  MEMS

l  微型組件

 

測量類型:

n  關鍵尺寸:

線寬  Linewidth

節(jié)距  Pitch

間隙  Spacing

 

n  Overlay

             Multi-layer registration

Box in box

Circle

Edge roughness

Butting error

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