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德?lián)P光電有限公司

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雙面曝光曝光機

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德?lián)P光電有限公司

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)品簡介：雙面曝光曝光機采用上及下兩組曝光源，欲曝光機基板夾于上下光罩之間同時曝基板上下兩面，對雙面制程之基板之產(chǎn)能，能兩倍于單面曝光制程。

詳細介紹

雙面曝光曝光機

產(chǎn)品簡介：

雙面曝光曝光機采用上及下兩組曝光源，

欲曝光機基板夾于上下光罩之間同時曝基板上下兩面，

對雙面制程之基板之產(chǎn)能，能兩倍于單面曝光制程。

曝光燈源

紫外光源功率350W or 500W

曝光光源尺寸:4″，5″，6″ ， 8″

波長: UV(350W時365nm強度約16~20mW/cm2)

均勻度: +-5%電源供應(yīng)器:定功率控制

快門控制計時器:0.1~999.9秒

影像系統(tǒng)

采用可變倍率鏡頭影像系統(tǒng)，總影像倍率100X-600X。

小型高解析黑白CCD攝影機，19"LCD螢?zāi)籐ED同軸光源打光，

影像解析度可達1um鏡頭位置調(diào)整，可前后左右上下微調(diào)約20mm，

可選擇使用一組或兩組影像系統(tǒng)，選配快速掃描臺，可快速移動鏡頭，前后左右移動約10cm。

曝光對準(zhǔn)臺

光罩真空吸盤: 4"，5" 或 6"下吸式

晶圓真空吸盤: 破片2"，3"，4" 或5"

具光罩與晶圓平行面校正功能，

晶圓真空吸盤可前后左右調(diào)整約10mm，調(diào)整靈敏度1um

旋轉(zhuǎn)調(diào)整約5度，調(diào)整靈敏度0.001度

Z軸可調(diào)整約3mm，調(diào)整靈敏度1um

Z軸具千分表可顯示光罩與晶圓間距，Z軸可設(shè)定對準(zhǔn)與曝光兩種間隙，可調(diào)整接觸真空吸附力大小

曝光模式有Vacuum contact，Soft contact，Proximity 人工置放晶片與調(diào)整晶片位置，取放晶圓時光罩吸盤以手開啟。

人工置放晶片與調(diào)整晶片位置，取放晶圓時光罩吸盤以手開啟。

操作系統(tǒng)

采全手動撥鈕操作系統(tǒng)，以手動控制面板操作

操作項目包括光罩與晶圓之更換，光罩與晶圓間隙之切換

光罩與晶圓平行面校正，真空接觸之切換與真空值調(diào)整

Z軸的歸零，鏡頭與曝光源左右交替移至對準(zhǔn)臺上方，并有安全互鎖功能。

機座

桌上型大底板機座，具調(diào)整腳。

性能

采真空接觸曝光圖形解析可達1um，

近接曝光依光罩與晶圓間隙可達3~5um。

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