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北京歐波同光學技術有限公司


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鎢燈絲掃描電子顯微鏡EVO MA 15/LS 15

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產品簡介

鎢燈絲掃描電子顯微鏡EVOMA15/LS15詳細描述:品牌:卡爾·蔡司型號:EVOMA15/LS15制造商:德國卡爾蔡司公司經銷商:歐波同有限公司免費:【品牌故事】世界可見光及電子光學的企業(yè)——德國蔡司公司始創(chuàng)于1846年

詳細介紹

鎢燈絲掃描電子顯微鏡EVO MA 15/LS 15


詳細描述:

品牌:卡爾·蔡司

 型號:EVO MA 15/LS 15

 制造商:德國卡爾蔡司公司

 經銷商:歐波同有限公司

免費:


【品牌故事】 

     世界可見光及電子光學的企業(yè)——德國蔡司公司始創(chuàng)于1846年。其 電子光學前身為LEO(里奧),更早叫Cambridge(劍橋)和Zeiss。積掃描電鏡領域40多年及透射電鏡領域60年的經驗,電子光學成像技術在世界上創(chuàng)造了數個里程碑:

    -與AEG公司合作實現(xiàn)了透射電子顯微鏡的商業(yè)化(1949)
    -陸續(xù)推出的EM9型電子顯微鏡是世界上具有自動曝光控制的電磁式
    -透射電子顯微鏡TEM(1956)
    -推出EM902型配用Castaing-Henry過濾器商用電子顯微鏡,用戶利用
    -該種新產品能夠得到高分辨率元素分布圖片(1984)
    -配用靜電電磁物鏡(Gemini技術)的場發(fā)射掃描電子顯微鏡DSM982
    -Gemini投放市場(1993)
    -推出具有Koehler照明的200KV場發(fā)射透射電鏡(2003)
    -推出具有鏡筒內校正Omega能量濾波器的場發(fā)射透射電鏡(2003)

    CARL ZEISS其前瞻性和*的設計,融合歐洲至上的制造工藝, 造就了該品牌在光電子領域的地位。自成立至今,一直延續(xù)不 斷創(chuàng)新的傳統(tǒng),公司擁有廣泛的專有技術,隨著離子束技術和基于電子束的 分析技術的加入,可為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案。其產品的高性能、 高質量、高可靠性和穩(wěn)定性已得到世界范圍內廣大用戶的信賴與認可。

    作為一家電子光學產品提供商,我們將為您提供*的納米技術解決方案,并且以專業(yè)化的手段讓您的投資物有所值。無論您是企業(yè)還是科研機構,卡爾 蔡司在高質量電子光學系統(tǒng)方面優(yōu)良的傳統(tǒng)都會為您的業(yè)績做出積極的貢獻。


 【總體描述】
       蔡司鎢燈絲掃描電鏡EVO MA 15的問世,將鎢燈絲掃描電鏡的發(fā)展帶入了全新的時代,超大樣品室為各類繁雜的樣品以及繁重的工作提供了輕松的解決方案,自動化的5軸樣品臺和大的X、Y、Z軸跟蹤掃描以及可變壓力的檢測模式使得EVO MA 15能夠廣泛適用于各類樣品的檢測工作,EVO MA 15作為一款研究級掃描電鏡能夠為您提供的視覺圖像和泛的應用領域。

  【技術參數】
    分辨率:3.0nm@ 30KV(SE and W)  4.0nm@ 30KV(VP with BSD) 
    加速電壓:0.2—30KV 
    放大倍數:5—1000000x 
    探針電流:0.5PA-5μA
    X-射線分析工作距離:8.5mm     35度接收角
    壓力范圍:10—400Pa (LS15:環(huán)掃模式10-3000Pa)
    工作室:365mm(φ)×275mm(h)
    5軸優(yōu)中心自動樣品臺:X=125mm  Y=125mm  Z=50mm  T=-10°- 90°R=360°

    較大試樣高度:145mm,大試樣直徑:250mm
    系統(tǒng)控制:基于Windows 7 的SmartSEM操作系統(tǒng)
    存儲分辨率為32,000 x 24,000 pixels

【主要特點】
   
能在可變壓力下操作 
    X射線和EBSD分析
    可移動大平臺
    快抽真空
    未來的保證,可升級在高壓和水蒸氣下成像和分析
    高亮度LaB6資源選擇
    光線套選擇

 【產品應用】
       
掃描電鏡(SEM)廣泛地應用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實時微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測量。


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