深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
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詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品特性：● 主要應(yīng)用領(lǐng)域：高?？蒲?、光學(xué)元件生產(chǎn)企業(yè)；● 借助參比光束衰減器，可測量超過 8.0 個(gè)吸光度單位 (Abs)● 測量范圍可達(dá) 175 - 330...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：深圳市更新時(shí)間：2026-07-11 在線留言
詳細(xì)摘要： 日立新一代全數(shù)字化120kV透射電子顯微鏡HT7800，屬于日立瑠璃系列產(chǎn)品Ruli TEM，操作的一體化和自動(dòng)化程度都有明顯提高。HT7800系列產(chǎn)品有兩個(gè)型...
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詳細(xì)摘要： SKYSCAN 1275臺(tái)式系統(tǒng)是一套真正的三維X射線顯微成像系統(tǒng)，為不同樣品的快速掃描而設(shè)計(jì)。得益于緊湊的幾何結(jié)構(gòu)和快速的平板探測器，它只需要短短幾分鐘的時(shí)間...
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詳細(xì)摘要： The NanoRacer? High-Speed AFM marks a quantum leap in quantitative imaging capab...
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詳細(xì)摘要： D9650和上一代產(chǎn)品一樣提供了良好的精度和穩(wěn)健性，增加了一個(gè)合并了PolyGate技術(shù)和Sonolytics的改進(jìn)型的電子與軟件平臺(tái)。D9650是理想的用于失...
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詳細(xì)摘要： 納光電化學(xué)系列產(chǎn)品的型號(hào)： CIMPS-1 CIMPS-2Zennium 電化學(xué)工作站XPOT外置恒電位儀(500mA，10V) EPC42控制模塊光具座，傳感...
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詳細(xì)摘要： 庫賽姆（COXEM）EM-30 Plus超高分辨率臺(tái)式（桌面式）掃描電鏡品牌： COXEM名稱型號(hào)：EM-30 PLUS制造商： 韓國COXEM公司經(jīng)銷商：庫賽...
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詳細(xì)摘要： 1. 悠久的電子顯微鏡研究及生產(chǎn)歷史ZEISS公司具有悠久的電鏡研究、生產(chǎn)歷史，在世界上一直處于地位。當(dāng)今的ZEISS公司納米技術(shù)系統(tǒng)分部（The Nano T...
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詳細(xì)摘要： 在以納米技術(shù)和生物技術(shù)為主的產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域里，從物質(zhì)的微細(xì)結(jié)構(gòu)到組成成分，SEM在多種多樣的觀察與分析中得到了靈活應(yīng)用。SEM用途日益擴(kuò)大，但對于鋼鐵等工業(yè)材料和汽車...
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詳細(xì)摘要： 電鏡能譜一體化設(shè)計(jì)，簡潔小巧Phenom ProX 的能譜儀 EDS 是針對臺(tái)式電鏡設(shè)計(jì)的，本著臺(tái)式電鏡簡單易用，售后無憂的宗旨，Phenom ProX 的能譜...
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詳細(xì)摘要： Apero 2-超高分辨場發(fā)射掃描電鏡【產(chǎn)品描述】Thermo Scientific Apreo 2 SEM高性能場發(fā)射掃描電鏡搭載獨(dú)特的實(shí)時(shí)元素成像功能和的自...
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詳細(xì)摘要： 全新一代Axia ChemiSEM掃描電鏡，采用獨(dú)特方法進(jìn)行樣品成分信息的采集、處理和展示；依托鏡筒技術(shù)，保持系統(tǒng)始終處于狀態(tài)，可聚焦樣品采集數(shù)據(jù)，隨時(shí)提供高質(zhì)...
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詳細(xì)摘要： NTE-4000（M）熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NTE-4000是一款PC計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備的...
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詳細(xì)摘要： NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：NANO-MASTER PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到可達(dá)12...
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詳細(xì)摘要： 品牌：恩科優(yōu)（N&Q）型號(hào)：NXQ800-6產(chǎn)地：美國恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中，N&Q8000系列光刻機(jī)是以自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)的操作性，超...
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詳細(xì)摘要： 品牌：恩科優(yōu)（N&Q）型號(hào)：NXQ400-8產(chǎn)地：美國恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中，N&Q4000系列光刻機(jī)是以半自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)的操作性，...
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詳細(xì)摘要： RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)NRE-3500（A）全自動(dòng)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)概述：獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及1...
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詳細(xì)摘要： PicoMaster XF 500-H 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直寫設(shè)備，它具有每毫米超過1200條線的輸出能力，特別適合用戶在光敏層上自由地創(chuàng)造微結(jié)...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：深圳市更新時(shí)間：2026-07-11 在線留言
詳細(xì)摘要： PicoMaster 200無掩模激光直寫光刻機(jī)●250納米分辨率（375納米激光源）●300納米分辨率（405納米激光源）●4095灰階●業(yè)界實(shí)力的成套全息設(shè)...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：深圳市更新時(shí)間：2026-07-11 在線留言
詳細(xì)摘要： 這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計(jì)。
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：深圳市更新時(shí)間：2026-07-11 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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