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NPC-4000 (M) 等離子清洗機(jī)

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地深圳市

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更新時間：2026-07-11 12:55:19瀏覽次數(shù)：41次

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經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：193條

所在地區(qū)：

聯(lián)系人：林經(jīng)理

產(chǎn)品簡介

Plasma Cleaner等離子清洗機(jī)NPC-4000（M）等離子清洗機(jī)概述：NANO-MASTER 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有無二的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。NP

詳細(xì)介紹

Plasma Cleaner等離子清洗機(jī)

NPC-4000（M）等離子清洗機(jī)概述：NANO-MASTER 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有無二的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。

NPC-4000（M）等離子清洗機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)

  • 緊湊型立式系統(tǒng)

  • 手動上下載片

  • 不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔

  • 兼容100級超凈間使用

  • 淋浴頭、ICP或微波等離子源

  • 旋轉(zhuǎn)樣品臺

  • RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺

  • 全自動或手動RF調(diào)諧

  • 最多可支持8個MFC帶電拋光的氣體管路

  • PC計(jì)算機(jī)控制的氣動閥

  • 帶密碼保護(hù)的多級訪問控制

  • 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動控制

  • 機(jī)械泵的壓力可達(dá)到10mTorr

  • 250 l/s的渦輪分子泵

  • 極限真空為5x10-7Torr

  • 完整的安全聯(lián)鎖

NPC-4000（M）等離子清洗機(jī)應(yīng)用：

  • 有機(jī)物以及無機(jī)物的殘留物去除

  • 光刻膠剝離或灰化

  • 去殘膠以及內(nèi)腐蝕(深腐蝕)應(yīng)用

  • 清洗微電子元件，電路板上的鉆孔或銅線框架

  • 提高黏附性，消除鍵合問題

  • 塑料的表面改型：O2處理以改進(jìn)涂覆性能

  • 產(chǎn)生親水或疏水表面

NPC-4000（M）等離子清洗機(jī)Features：

  • Stａnd Alone System

  • Manual wafer Load/Unload

  • Stainless Steel, Aluminum or Bell Jar Chambers

  • Class 100 Clean Room Compatible

  • Shower Head, ICP or Microwave Plasma Sources

  • Rotating Platen

  • RF Biasable Heated up to 300 °C PID Controlled or Cooled Platen

  • Fully Automated or Manual RF tuning

  • Up to 8 Mass Flow Controllers with Electropolished Gas Lines

  • PC Controlled Pneumatic Valves

  • Multiple Levels of Access with Password Protection

  • PC Controlled with LabVIEW

  • Mechanical Pump with Pressure goes to 10 mTorr 

  • 250 l/sec Turbomolecular Pump

  • 5x10-7 Torr Base Pressure

  • Fully Safety Interlocked

NPC-4000（M）等離子清洗/去膠機(jī) Applications:

  • Removal of Organic and Inorganic Materials without Residues

  • Photoresist Stripping or Ashing

  • Desmearing and Etch Back Applications 

  • Cleaning Microelectronics, Drilled Holes on Circuit Boards or Cu Lead Frames

  • Adhesion Promotion, Elimination of Bonding Problems

  • urface Modification of Plastics: O2 Treatment for Paintability

  • Producing Hydrophilic or Hydrophobic Surfaces




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