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BG-501曝光機

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更新時間：2025-09-21 10:18:57瀏覽次數(shù)：534次

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三河建華高科有限責(zé)任公司

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產(chǎn)品簡介

主要用于中小規(guī)模集成電路和半導(dǎo)體元器件制造工藝中的對準(zhǔn)及曝光

詳細介紹

主要用于中小規(guī)模集成電路和半導(dǎo)體元器件制造工藝中的對準(zhǔn)及曝光。本產(chǎn)品操作方便、穩(wěn)定性高、重復(fù)性好，并具有較高的性能價格比，可廣泛應(yīng)用于科研和生產(chǎn)。

主要技術(shù)特點

對準(zhǔn)工作臺

對準(zhǔn)精度搞，漂移小，精密楔形誤差補償機構(gòu)實現(xiàn)三點找平，找平力小，延長掩摸版使用壽命。

曝光系統(tǒng)

采用柱體蠅眼透鏡和高能力集光的橢球反射鏡等精密光學(xué)件，具有較高的光強、均勻性、光學(xué)分辨率。

分離視場顯微鏡

顯微鏡像質(zhì)清晰，觀察舒適。

控制系統(tǒng)

電氣控制采用可編程序控制器（PLC）、LCD顯示器，操作方便，汞燈電源易于觸發(fā)，可靠性高。該設(shè)備的關(guān)鍵件采用進口或?qū)I(yè)廠家制造，氣動元件采用SMC產(chǎn)品，提高了設(shè)備的穩(wěn)定性、可靠性，同時提供個性化服務(wù)。

主要技術(shù)指標(biāo)