一般工作距離可調,距離越近,濺射速度越快,但熱損傷會增加。
離子流的大小通過控制真空壓力實現(xiàn),真空度越低,I越大,濺射速度越快,原子結晶晶粒越粗,電子轟擊樣品(陽極)產生的熱量越高;真空度越高,I 越小,濺射速度越慢,原子結晶晶粒越細小,電子轟擊樣品產生的熱量小。
加速電壓為固定,也有可調的,加速電壓越高,對樣品熱損傷越大。一般使用金屬靶材的正比區(qū)域。
一般工作距離可調,距離越近,濺射速度越快,但熱損傷會增加。離子流的大小通過控制真空壓力實現(xiàn),真空度越低,I越大,濺射速度越快,原子結晶晶粒越粗,電子轟擊樣品(陽極)產生的熱量越高;真空度越高,I 越小,濺射速度越慢,原子結晶晶粒越細小,電子轟擊樣品產生的熱量小。加速電壓為固定,也有可調的,加速電壓越高,對樣品熱損傷越大。一般使用金屬靶材的正比區(qū)域。有些熱敏樣品,需要對樣品區(qū)進行冷卻,水冷或者帕爾貼冷卻;也可以采用磁控裝置,像電磁透鏡一樣把電子偏離樣品。經過這樣的改造,當然會增加很高的成本??梢栽谑灡砻鏋R射一層金屬,而沒有任何損傷!真空中的雜質越多,鍍膜質量越差。一般黃金比較穩(wěn)定,可以采用空氣作為等離子氣源,而其他很多靶材則需要惰性氣體為好。氣體原子序數(shù)越高,動量越大,濺射越快,但晶粒會較粗,連續(xù)成膜的膜層較厚。保持真空室的潔凈對高質量的鍍膜有很大好處。不要讓機械真空泵長期保持極限真空,否則容易反油。
主機規(guī)格:300mm×360mm×380mm(W×D×H)
靶(上部電極):金:50mm×0.1mm(D×H)
靶材:Au(標配)也可根據(jù)實際情況配備銀靶、鉑靶等
樣品室:硼硅酸鹽玻璃160mm×120mm(D×H)
樣品臺:可安裝直徑50mm和直徑70mm的樣品臺,也可根據(jù)自身要求定制樣品臺
靶材尺寸:Ф50mm
真空指示表: 真空度:≤ 4X10-2 mbar
離子電流表: 電流:100mA
定時器:數(shù)碼 最長時間:0-360S
微型真空氣閥:可連接φ3mm軟管
可通入氣體: 多種
電壓: -1600 DCV
機械泵:標準配置2L/S(國產VRD-8)
輸入電壓:220V(可做110V),50HZ
價格面議