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上海瞬渺光電技術(shù)有限公司
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更新時(shí)間：2026-05-29 08:13:47瀏覽次數(shù)：58次
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MLA100 無掩模光刻
以實(shí)惠的價(jià)格，重點(diǎn)是高性能設(shè)計(jì)，MLA100是許多研發(fā)應(yīng)用的光刻方案。該光學(xué)系統(tǒng)被設(shè)計(jì)以50平方毫米/分鐘直接進(jìn)入光致抗蝕劑的速度來寫結(jié)構(gòu)下降到1微米，而無需光掩模。光掩模從光刻工藝中消除會(huì)增加靈活性和顯著縮短成型或制造周期。該MLA100由曝光向?qū)В℅UI）控制，這通過完整的程序引導(dǎo)操作員來操作：加載基底，選擇設(shè)計(jì)和開始曝光。隨著60x1875px2的足跡MLA100的設(shè)計(jì)，以適應(yīng)甚至到較小的研發(fā)實(shí)驗(yàn)室，并且只需要為操作提供電源和壓縮空氣。
MLA100的應(yīng)用領(lǐng)域包括生命科學(xué)，微機(jī)電系統(tǒng)，微光學(xué)，半導(dǎo)體，傳感器，執(zhí)行器，微光機(jī)電系統(tǒng)，材料研究，納米管，石墨烯，這任何一項(xiàng)應(yīng)用都需要微光顯示結(jié)構(gòu)。
主要特征：
寫速度 50mm^2/min
最小基板尺寸 6"x 6"
曝光區(qū)域 100×100mm^2
最小結(jié)構(gòu) 1um
高功率LED光源
SLM基于光引擎
多種數(shù)據(jù)輸入格式
基本灰度曝光模式
對(duì)準(zhǔn)攝像系統(tǒng)
實(shí)時(shí)自動(dòng)對(duì)焦
優(yōu)化的曝光向?qū)?/span>
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