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二氧化硅支持膜是在200um厚的硅片上生長40、18或8nm厚二氧化硅膜，3mm氮化硅片上0.5 x 0.5mm窗口上的二氧化硅膜，膜厚分為40nm，18nm和8nm，孔徑大小/數(shù)量：40 nm時(shí)50 x 50µm / 24孔，18nm時(shí)60 x 60µm / 24孔，8nm時(shí)70 x 70µm / 24孔。表面粗糙度：RMS（Rq）為0.65nm，平均粗糙度（Ra）為0.41 nm。應(yīng)用領(lǐng)域：納米材料的沉積和生長。薄膜分析和表征。催化劑的研發(fā)。支持FIB薄片。半導(dǎo)體材料的表征。研究附著的生物分子。貨號(hào)21530-10到21532-10.留言咨詢
二氧化硅支持膜是在200um厚的硅片上生長40、18或8nm厚二氧化硅膜，3mm氮化硅片上0.5 x 0.5mm窗口上的二氧化硅膜，膜厚分為40nm，18nm和8nm，孔徑大小/數(shù)量：40 nm時(shí)50 x 50µm / 24孔，18nm時(shí)60 x 60µm / 24孔，8nm時(shí)70 x 70µm / 24孔。表面粗糙度：RMS（Rq）為0.65nm，平均粗糙度（Ra）為0.41 nm。應(yīng)用領(lǐng)域：納米材料的沉積和生長。薄膜分析和表征。催化劑的研發(fā)。支持FIB薄片。半導(dǎo)體材料的表征。研究附著的生物分子。貨號(hào)21530-10到21532-10.
| 產(chǎn)品貨號(hào) | 載網(wǎng)目數(shù) | 材質(zhì) | 規(guī)格 |
| 21532-10 | 二氧化硅支持膜，?3mm框架，0.5×0.5mm窗口,24個(gè)70 x 70µm孔，膜厚8nm | 硅 | 10/包 |
| 21531-10 | 二氧化硅支持膜，?3mm框架，0.5×0.5mm窗口,24個(gè)60 x 50µm孔，膜厚18nm | 硅 | 10/包 |
| 21530-10 | 二氧化硅支持膜，?3mm框架,0.5×0.5mm窗口,24個(gè)50 x 50µm孔，膜厚40nm | 硅 | 10/包 |
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