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PTL-VM2000 等離子清洗機

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更新時間：2023-02-16 09:42:38瀏覽次數：506次

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產品簡介

PTL-VM2000等離子清洗機可支持8英寸規(guī)格產品處理

詳細介紹

一、PTL-VM2000 等離子清洗機設備簡介：

PTL-VM2000等離子清洗機可支持8英寸處理。

PTL 系列低溫等離子表面處理設備由真空腔體及高頻等離子電源、抽真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、自動控制系統(tǒng)等部分組成。工作基本原理是在真空狀態(tài)下，等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體, 利用真空泵將工作室進行抽真空達到 30-100pa 的真空度，再在高頻發(fā)生器作用下，將氣體進行電離，形成等離子體（物質第四態(tài)），其顯著的特點是高均勻性輝光放電，根據不同氣體發(fā)出從藍色到深紫色的彩色可見光，材料處理溫度接近室溫。這些高度活躍微粒子和處理的表面發(fā)生作用，得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。

等離子處理優(yōu)點：

1.環(huán)保技術：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應 ,不消耗水資源、無需添加化學藥劑,對環(huán)境無污染。

2.廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進行處理,如金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料都能很好地處理；

3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。

4.功能強：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000 埃），可在保持材料自身特性的同時，賦予其一種或多種新的功能；

5.低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續(xù)運行，往往幾瓶氣體就可以代替數千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。

6. 全過程可控工藝：所有參數可由電腦設置和數據記錄，進行工藝質量控制。

7. 處理物幾何形狀無限制：大或小，簡單或復雜，部件或紡織品，均可處理。

二、PTL-VM2000 等離子清洗機技術參數

1、設備外形尺寸: 600(W)×540(D)×1550(H)mm

2、真空倉體尺寸: 240(W)*240(H)*400(D) 約 20L

3、倉體結構: 航空鋁合金腔體，內置容式耦合電極，電極尺寸 220(W) ×300(D) mm,5 層。

4、等離子發(fā)生器: 德國 PTL 射頻發(fā)生器技術，頻率 40khz，功率 0-600W 調節(jié)，自動匹配，全電路保護，可連續(xù)長時間工作。（風冷）。

5、控制系統(tǒng):PLC 觸摸屏全自動控制，采用歐姆龍、施耐德等進口品牌電器元件,有手動、自動兩種控制模式，真彩臺達觸摸屏，西門子可編程控制器（PLC），美國產真空壓力傳感系統(tǒng)，可在線監(jiān)控真空壓力、處理時間、等離子功率等工藝參數，并具有故障報警、工藝存儲等多種功能。在自動模式下設置各項工藝參數，可一鍵啟動，連續(xù)重復運行。手動模式用于實驗工藝以及設備維護維修。

6、PTL-VM2000 采用立式結構設計，設備設計緊湊，整體一體化設計，采用全自動控制模式，適合于工廠中小批量產品生產。

三、PTL-VM2000 等離子清洗機工藝流程：

3.1 處理工藝流程

裝入工件→抽真空→沖入反應氣體→等離子放電處理→回沖氣體→取出工件

3.2 工藝控制：

3.2.1 處理時間控制： 1 秒～120 分鐘連續(xù)可調。

3.2.2 等離子放電壓力：30～50Pa

3.2.3 功率設定范圍：0～600W 連續(xù)可調

3.2.4 兩路工藝氣體流量設定范圍：氣體 1（0～160ml/min）氣體 2（0～500ml/min）

3.3 PLC 軟件功能（操控界面）

PTL-VM2000 等離子清洗機