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去膠剝離機(jī)AST-222Metal Lift off

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更新時(shí)間:2023-08-20 11:35:04瀏覽次數(shù):512次

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設(shè)備配置 2 Soak、2 Stripper、2 Clean
設(shè)備產(chǎn)能 60WPH
襯底材質(zhì) Si、Glass、Sapphire、GaAs、InP、GaN、SiC、LT、LN
適用工藝 金屬剝離、光刻膠去除
工藝指標(biāo) 顆粒控制≤20ea@0.2μm,金屬去除率>99%,光刻膠去除率>99%
應(yīng)用領(lǐng)域 *封裝、MEMS、功率器件、射頻集成電路、半導(dǎo)體光學(xué)、光通訊、科研等
技術(shù)特征 ?設(shè)備為全自動(dòng)機(jī)臺(tái),可自動(dòng)完成去膠、金屬剝離工藝;
?設(shè)備配置浸泡、去膠、清洗三種工藝腔體,浸泡單元采用浸泡和超聲波輔助對(duì)晶圓表面的光刻膠溶解;
?去膠單元采用高壓柱狀或扇狀噴嘴對(duì)晶圓表面的金屬和光刻膠進(jìn)行去除;
?清洗單元將晶圓表面的去膠液和顆粒清洗干凈,最終實(shí)現(xiàn)晶圓的干進(jìn)干出;
?去膠液循環(huán)系統(tǒng)采用多級(jí)過濾,可實(shí)現(xiàn)循環(huán)使用。
設(shè)備尺寸 2550*1950*2500(W*D*H)

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