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噴膠機 ASPAPRAY

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更新時間:2023-08-20 11:29:01瀏覽次數:348次

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設備配置2-4chamber(option:COT、DEV)設備產能20WPH襯底材質Si、Glass等適用工藝深孔噴膠TSV、高深寬比臺階噴膠
設備配置 2-4 chamber(option: COT、DEV)
設備產能 20WPH
襯底材質 Si、Glass等
適用工藝 深孔噴膠TSV、高深寬比臺階噴膠.
工藝指標 平面均勻性≤5%@5-10um;臺階覆蓋率≥30%
應用領域 *封裝、MEMS、科研等
技術特征 ?適用于表面刻有深孔的高表面形貌圓形或方形基片的噴涂工藝要求,超聲波霧化光刻膠膠粒,可均勻覆蓋臺階表面,邊緣,側壁,底部;
?噴嘴配有自動清洗功能;
?設備可配置勻膠腔體和顯影腔體。
設備尺寸 2665*1724*2432mm(W*D*H)

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