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北京瑞科中儀科技有限公司

北京瑞科中儀科技有限公司
2025-01-01 05:14:2287
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簡要描述:磁控濺鍍沉積為一種物理氣相沉積(PVD)方法,通過從靶材濺鍍出材料,然後沉積至基板上來形成薄膜。在這種技術(shù)中,大多使用氬氣或氮氣等離子轟擊靶材,並將基板以適當?shù)木嚯x放置在靶材的前面。

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