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膜厚量測(cè)儀 FE-300

參考價(jià)	面議

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱(chēng)大塚電子（蘇州）有限公司
品牌
型號(hào)
所在地蘇州市
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2026/6/10 10:16:08
訪問(wèn)次數(shù)40

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

大塚電子（蘇州）有限公司主要銷(xiāo)售用于光學(xué)特性評(píng)價(jià)?檢查的裝置。其裝置用于在LED、 OLED、汽車(chē)前燈等的光源?照明產(chǎn)業(yè)以及液晶顯示器、有機(jī)EL顯示器等平板顯示產(chǎn)業(yè)以及其相關(guān)材料的光學(xué)特性評(píng)價(jià)?檢查?！　∫愿咚?高精度?高可靠性且有市場(chǎng)實(shí)際應(yīng)用的分光器MCPD系列為基礎(chǔ)，在中國(guó)的顯示器市場(chǎng)上有著20年以上銷(xiāo)售實(shí)例，為許多廠家在研究開(kāi)發(fā)、生產(chǎn)部門(mén)所使用。并且在光源?照明相關(guān)方面，對(duì)研究機(jī)構(gòu)、各個(gè)廠家的銷(xiāo)售量在逐步擴(kuò)大?！　≡谥袊?guó)的蘇州有設(shè)立售后服務(wù)點(diǎn)，為了能迅速且周到的為顧客服務(wù)而努力。　　我公司的母公司日本大塚電子集團(tuán)，隸屬于大冢集團(tuán)，一直以來(lái)都謹(jǐn)守大冢集團(tuán) 的企業(yè)理念「Otsuka-people creating new products for better health world wide」(大冢為人類(lèi)的健康創(chuàng)造革新的產(chǎn)品)，懷著大冢制藥株式會(huì)社「多樣性」「性」「世界化」的愿景，不斷的推出創(chuàng)新產(chǎn)品，面向開(kāi)展業(yè)務(wù)，為社會(huì)作出貢獻(xiàn)。

展開(kāi)顯示更多內(nèi)容

光譜儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢(xún)價(jià)

產(chǎn)品信息特長(zhǎng) 薄膜到厚膜的測(cè)量范圍、UV~NIR光譜分析高性能的低價(jià)光學(xué)薄膜量測(cè)儀藉由反射率光譜分析膜厚完整繼承FE-3000機(jī)種90%的功能無(wú)復(fù)雜設(shè)定，操作簡(jiǎn)單，短時(shí)...

膜厚量測(cè)儀 FE-300 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品信息

特殊長(zhǎng)度

● 支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度

● 使用反射光譜分析薄膜厚度

● 實(shí)現(xiàn)非接觸、非破壞的高精度測(cè)量，同時(shí)體積小、價(jià)格低

● 簡(jiǎn)單的條件設(shè)置和測(cè)量操作！任何人都可以輕松測(cè)量薄膜厚度

● 通過(guò)峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法、優(yōu)化法等，可以進(jìn)行多種膜厚測(cè)量。

● 非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光計(jì)數(shù)）。

測(cè)量項(xiàng)目

反射率測(cè)量

膜厚分析（10層）

光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光計(jì)數(shù)）

測(cè)量對(duì)象

功能膜、塑料
透明導(dǎo)電膜（ITO、銀納米線）、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、膠粘劑、保護(hù)膜、硬涂層、防指紋，等等。

半導(dǎo)體
化合物半導(dǎo)體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、藍(lán)寶石等。

表面處理
DLC涂層、防銹劑、防霧劑等。

光學(xué)材料
濾光片、增透膜等。

FPD
LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有機(jī)膜、封裝材料）等

其他
HDD、磁帶、建筑材料等

原理

測(cè)量原理

大冢電子利用光學(xué)干涉儀和自有的高精度分光光度計(jì)，實(shí)現(xiàn)非接觸、無(wú)損、高速、高精度的薄膜厚度測(cè)量。光學(xué)干涉測(cè)量法是一種使用分光光度計(jì)的光學(xué)系統(tǒng)獲得的反射率來(lái)確定光學(xué)膜厚的方法，如圖 2 所示。以涂在金屬基板上的薄膜為例，如圖1所示，從目標(biāo)樣品上方入射的光被薄膜表面（R1）反射。此外，穿過(guò)薄膜的光在基板（金屬）和薄膜界面（R2）處被反射。測(cè)量此時(shí)由于光程差引起的相移所引起的光學(xué)干涉現(xiàn)象，并根據(jù)得到的反射光譜和折射率計(jì)算膜厚的方法稱(chēng)為光學(xué)干涉法。分析方法有四種：峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法和優(yōu)化法。

規(guī)格

類(lèi)型	薄膜型	標(biāo)準(zhǔn)型
測(cè)量波長(zhǎng)范圍	300-800nm	450-780nm
測(cè)量膜厚范圍（SiO ₂換算）	3nm-35μm	10nm-35μm
光斑直徑	φ3mm / φ1.2mm
樣本量	φ200×5（高）mm
測(cè)量時(shí)間	0.1-10s內(nèi)
電源	AC100V ± 10% 300VA
尺寸、重量	280 (W) x 570 (D) x 350 (H) 毫米，24 公斤
其他	參考板，配方創(chuàng)建服務(wù)