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氧化鋁化學(xué)吸附儀

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng)北京彼奧德電子技術(shù)有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地北京市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2025/12/25 10:42:19
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù)40
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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北京彼奧德電子技術(shù)有限公司(簡(jiǎn)稱(chēng)"彼奧德電子")成立于2003年1月9日,是一家集項(xiàng)目研發(fā)、產(chǎn)品生產(chǎn)、測(cè)試咨詢(xún)于一身的技術(shù)服務(wù)型企業(yè)。公司擁有獨(dú)立的技術(shù)研發(fā)、產(chǎn)品制造、組裝測(cè)試及客戶(hù)服務(wù)團(tuán)隊(duì),并具備設(shè)計(jì)室、數(shù)控機(jī)床加工中心、裝配車(chē)間及實(shí)驗(yàn)室等自主硬件設(shè)施,是業(yè)界內(nèi)規(guī)模較大和團(tuán)隊(duì)*的技術(shù)服務(wù)型企業(yè)。彼奧德電子以"品質(zhì)至上、服務(wù)優(yōu)先"作為核心發(fā)展理念,以用戶(hù)實(shí)際反饋為出發(fā)點(diǎn),提高產(chǎn)品技術(shù)等的同時(shí),引入更多的業(yè)人才,在物理吸附、化學(xué)吸附、真密度測(cè)試等域取得了多項(xiàng)技術(shù)突破,著力攻克用戶(hù)的應(yīng)用難題。在十幾年的發(fā)展過(guò)程中,公司積累了一批高素質(zhì)的研發(fā)和應(yīng)用技術(shù)人才,在*的技術(shù)支撐和人員基礎(chǔ)設(shè)施的保障下,彼奧德電子能夠自主完成產(chǎn)品的生產(chǎn)及核心零部件的研發(fā)與制造,能為各科研單位和企業(yè)提供主營(yíng)產(chǎn)品范圍外的技術(shù)開(kāi)發(fā)服務(wù)。
比表面儀
簡(jiǎn)要描述: 活性氧化鋁對(duì)氣體、水蒸氣和某些液體的水分有選擇吸附本領(lǐng)。吸附飽和后可在約175-315℃加熱除去水而復(fù)活。吸附和復(fù)活可進(jìn)行多次。除用作干燥劑外,還可從污染的氧、氫、二氧化碳、天然氣等中吸附潤(rùn)滑油的蒸氣。并可用作催化劑和催化劑載體和色層分析載體。
氧化鋁化學(xué)吸附儀 產(chǎn)品信息

氧化鋁分為煅燒氧化鋁和普通工業(yè)氧化鋁,煅燒氧化鋁是生產(chǎn)仿古磚的原料,而工業(yè)氧化鋁則可用于生產(chǎn)微晶石,在傳統(tǒng)釉料中,氧化鋁常用作增白。近年來(lái)仿古磚和微晶石受到了市場(chǎng)青睞,氧化鋁的用量也是逐年增長(zhǎng)。據(jù)市場(chǎng)調(diào)查:作為陶瓷磚生產(chǎn)重要原料之的氧化鋁,即使是在陶瓷行業(yè)的市場(chǎng)形勢(shì)普遍低迷,眾多陶瓷化工原料的價(jià)格漲幅不定之時(shí),但氧化鋁的價(jià)格始終保持在個(gè)穩(wěn)定的區(qū)間內(nèi),很少受到陶瓷行業(yè)低迷所影響,可見(jiàn)氧化鋁在陶瓷中的作用是。
因此,氧化鋁陶瓷在陶瓷行業(yè)中應(yīng)運(yùn)而生--氧化鋁陶瓷是種以Al₂O₃為主要原料,以剛玉為主晶相的陶瓷材料.因其具有機(jī)械強(qiáng)度高,硬度大,高頻介電損耗小,高溫絕緣電阻高,耐化學(xué)腐蝕性和導(dǎo)熱性良好等優(yōu)良綜合技術(shù)性能等優(yōu)勢(shì)。
北京彼奧德PCA-1200科研專(zhuān)用化學(xué)吸附儀,準(zhǔn)確的脈沖定量,高精度耐腐蝕的TCD檢測(cè)器、質(zhì)量流量計(jì),確保數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性和數(shù)據(jù)穩(wěn)定性。多段程序控溫,更合理的完成程序升溫反應(yīng)和等溫反應(yīng)。貫通式強(qiáng)冷系統(tǒng),確保溫度準(zhǔn)確性和降溫升溫速率。
功能展示:
①程序溫度反應(yīng):TPD、TPR、TPO、 TPRx
②應(yīng)用功能:催化劑等功能材料的表面金屬分散度、活性金屬面積、利用脈沖化學(xué)吸附定量酸性強(qiáng)度及堿性強(qiáng)度(脈沖滴定)、等溫反應(yīng);即酸(堿)性中心數(shù)量、酸(堿)度、氫在金屬表面的吸附、氧化碳在金屬表面的吸附、氧在金屬表面的吸附、氮在金屬表面的吸附、乙烯和乙炔在金屬表面的吸附、NH3的程序升溫脫附。

應(yīng)用保障配置參數(shù):
1、VICI兩位六通閥,用于脈沖滴定法分析金屬面積和分散度測(cè)定(脈沖定量體積1-3ml可選)
2、配置蒸汽發(fā)生器可進(jìn)行惰性載氣中液體蒸汽包括有機(jī)蒸汽(例如吡啶、苯)的吸附
3、蒸汽冷阱設(shè)于樣品管和檢測(cè)器之間,以去除雜質(zhì)氣;物理吸附冷阱般用液氮。
4、四臂PT鍍金TCD 檢測(cè)器,具有的抗氧化和抗氨腐蝕的能力,穩(wěn)定的電流控制保證了基線(xiàn)穩(wěn)定性和重現(xiàn)性信號(hào)
5、不銹鋼管路具有大化的化學(xué)適應(yīng)性是適用于廣泛的氣體。
 
6、標(biāo)準(zhǔn)高溫石英樣品池可內(nèi)置熱電偶,提供準(zhǔn)確的樣品溫度測(cè)量,并做溢流道設(shè)計(jì),可用于各種尺寸的顆粒和粉體(在定壓力條件下選用不銹鋼反應(yīng)器)
7、可連接質(zhì)譜儀、色譜儀、紅外或其他檢測(cè)器; 色譜/質(zhì)譜連接方式: 3 種(a: 在樣品管后端; b: 在冷阱之后,檢測(cè)器之前; c: 在檢測(cè)器之后)
8、操作軟件基于Windows操作系統(tǒng)開(kāi)發(fā),軟件簡(jiǎn)單易學(xué),使用方便。軟件支持鼠標(biāo)點(diǎn)擊操作,打印機(jī)和遠(yuǎn)程控制,直觀顯示每個(gè)流程的原理圖直觀顯示在屏幕上,能夠直觀了操作流程可進(jìn)展;有峰編輯軟件,提供峰選擇、編輯、積分和數(shù)據(jù)平滑處理,并能手動(dòng)標(biāo)注,數(shù)據(jù)能夠?qū)隕XCEL或者WORD、PNG等。
9、安控系統(tǒng):高精度可燃?xì)怏w預(yù)警

脈沖滴定數(shù)據(jù)圖
技術(shù)參數(shù):
載氣:N2,Ar,He,H2等
反應(yīng)氣:H2, O2, CO, NO, SO2, NH3,H2S等
氣體入口:6個(gè)(可擴(kuò)展至10個(gè),多路載氣、多路反應(yīng)氣;混合器內(nèi)置)
液路入口:1個(gè)(可選配蒸汽發(fā)生裝置)
溫度控制(管路、蒸汽發(fā)生器、爐子、TCD溫度均數(shù)字可控)
爐子溫度:室溫~1200℃(加冷阱可以擴(kuò)展到-100~1200℃)
爐子精度:0.2%FS
升溫速率:0~100℃/min(可實(shí)現(xiàn)分段控溫)
          0~500℃(升溫速率0~100℃)
          500℃-750℃(升溫速率0~50℃)
          750℃-1000℃(升溫速率0~30℃)
          1000℃-1200℃(升溫速率0~20℃)                                      
蒸汽發(fā)生器:0~300℃(可選,溫度上限可設(shè)置,防止過(guò)熱)
TCD溫度:0~300℃(可設(shè)置溫度上限,防止過(guò)熱)
TCD恒溫精度:0.1%FS
管路防冷凝:0~250℃.確保儀器不銹鋼管線(xiàn)、閥門(mén)和TCD探測(cè)器無(wú)“冷點(diǎn)”(可選,溫度上限可設(shè)置,防止過(guò)熱)
流量控制:質(zhì)量流量控制器,流量范圍 0~100sccm(ml/min)
            氣路控制系統(tǒng):高精度十二位體電磁閥控制模塊
            分析壓力:常壓---8MPa(可選)精度:±0.3% Of Reading
            樣品管:高溫化學(xué)吸附石英樣品管或316L不銹鋼反應(yīng)器
            空氣制冷:可升降電爐+貫穿式強(qiáng)風(fēng)冷系統(tǒng),可快速降溫,從高溫
                      到100℃  冷卻時(shí)間< 25 分鐘
            重現(xiàn)性:0.5%
            樣品熱電偶:在樣品管內(nèi)或反應(yīng)器內(nèi)

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