超高真空電子束蒸鍍設(shè)備介紹
超高真空環(huán)境的特徵為其真空壓力低於10-8至10-12 Torr,在化學(xué)物理和工程領(lǐng)域十分常見。超高真空環(huán)境對於科學(xué)研究非常重要,因?yàn)閷?shí)驗(yàn)通常要求,在整個(gè)實(shí)驗(yàn)過程中,表面應(yīng)保持無污染狀態(tài)和使用較低能量的電子和離子的實(shí)驗(yàn)技術(shù)的使用,而不會受到氣相散射的過度干擾。在這樣超高真空環(huán)境下使用電子束蒸鍍,SYSKEY可以提供高品質(zhì)的薄膜。

針對超高真空和高溫加熱設(shè)計(jì)基板旋轉(zhuǎn)鍍膜機(jī)構(gòu),使用陶瓷培林旋轉(zhuǎn),並在內(nèi)部做水冷循環(huán)來保護(hù)機(jī)構(gòu)以確保長時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn)的穩(wěn)定性。

| 超高真空電子束蒸鍍設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
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| 配置和優(yōu)點(diǎn) | 選件 |
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