集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)
高產(chǎn)量
等離子蝕刻和沉積腔體可以與多達(dá)兩個(gè)片盒站組合,用于到200 mm晶片的高產(chǎn)量工藝。
研發(fā)
三到六個(gè)端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機(jī)、RIE刻蝕機(jī)、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備,以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過(guò)預(yù)真空室和/或真空片盒站加載。
SENTECH多腔系統(tǒng)包括等離子刻蝕和/或沉積腔體、傳送腔室、預(yù)真空室或片盒站。傳送腔室包括傳送機(jī)械手臂,可適用于三至六個(gè)端口??梢允褂枚噙_(dá)兩個(gè)片盒站來(lái)增加產(chǎn)量。傳送腔室可以配備多種選擇。
用于研發(fā)的SENTECH多腔系統(tǒng)通過(guò)圖形用戶界面控制軟件操作。*的控制軟件可用于工業(yè)領(lǐng)域高產(chǎn)量的多腔系統(tǒng)。













广宁县|
永宁县|
金门县|
涪陵区|
随州市|
广州市|
股票|
保亭|
博乐市|
仪陇县|
治县。|
丹东市|
水富县|
昭苏县|
郯城县|
永仁县|
潮安县|
论坛|
东丽区|
博客|
武平县|
翁源县|
从江县|
右玉县|
常德市|
荥阳市|
柘荣县|
鹤壁市|
惠来县|
商河县|
锦屏县|
固镇县|
广丰县|
若羌县|
德钦县|
门源|
华阴市|
杭锦旗|
南康市|
富锦市|
葫芦岛市|