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HMDS預(yù)處理涂膠烤箱真空烘箱干燥箱

參考價 ¥ 99999
訂貨量 ≥1臺
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海實貝儀器設(shè)備廠
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號PVD-090-HM
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2024/5/13 15:50:07
  • 訪問次數(shù)217
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  上海實貝儀器設(shè)備廠成立于2010年,是生產(chǎn)銷售實驗室設(shè)備、儀器儀表、醫(yī)用及分析設(shè)備的廠家,企業(yè)憑著有經(jīng)驗的研發(fā)設(shè)計團(tuán)隊,使產(chǎn)品技術(shù)不斷創(chuàng)新,改進(jìn)提升產(chǎn)品質(zhì)量。現(xiàn)以生產(chǎn)銷售恒溫設(shè)備為核心的上海實貝儀器設(shè)備廠用全新的面貌服務(wù)客戶,“服務(wù)于客戶,立足于客戶”是我們的經(jīng)營理念,也是我們一直秉承的銷售思路,因為我們相信客戶才是企業(yè)的原動力,也是企業(yè)發(fā)展的基本。我們提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品、*的售后服務(wù),并信守誠信經(jīng)營的原則,服務(wù)好每一位客戶,讓客戶滿意就是我們的責(zé)任與義務(wù)。
 
  產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于通訊、機械、電子、半導(dǎo)體、電器、汽車、化工、生物制藥、衛(wèi)生、食品、農(nóng)業(yè)科學(xué)、紡織、??圃盒<翱蒲械阮I(lǐng)域。
 
  主營產(chǎn)品: 干燥箱,高溫烘箱,低溫恒溫培養(yǎng)箱,真空干燥箱,高低溫試驗箱,恒溫恒濕箱,生化培養(yǎng)箱,干烤滅菌器,恒溫水浴箱,老化箱,潔凈烘箱,高溫?zé)o氧烤箱,真空攪拌脫泡機, HMDS真空烘箱,各類工業(yè)流水線烘道產(chǎn)品及恒溫設(shè)備。
 
干燥箱,烘箱,培養(yǎng)箱,高低溫試驗箱,馬弗爐,水浴箱,恒溫恒濕箱
HMDS預(yù)處理涂膠烤箱真空烘箱干燥箱
HMDS用于光刻晶片涂膠工藝,自動化工藝流程,操作簡單。在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)。
HMDS預(yù)處理涂膠烤箱真空烘箱干燥箱 產(chǎn)品信息

HMDS預(yù)處理涂膠烤箱真空烘箱干燥箱

HMDS預(yù)處理涂膠烤箱真空烘箱干燥箱

HMDS預(yù)處理真空烘箱

 

一、預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),而涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝顯得更為必要,尤其在所刻線條比較細(xì)的時候,任何一個環(huán)節(jié)出現(xiàn)一點紕漏,都可能導(dǎo)致光刻的失敗。在涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而晶片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,如果在晶片表面直接涂膠的話,會造成光刻膠和晶片的黏合性較差,甚至造成局部的間隙或氣泡,涂膠厚度和均勻性都受到影響,進(jìn)而會影響了光刻效果和顯影,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和晶片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕,所以涂膠工藝中引入一種化學(xué)制劑HMDS(六甲基二硅氮甲烷,英文全名Hexamethyldisilazane)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到晶片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物,是一種表面活性劑,它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

 

二、產(chǎn)品結(jié)構(gòu)與性能

2.1產(chǎn)品結(jié)構(gòu):

1.設(shè)備外殼采用優(yōu)質(zhì)冷軋鋼板表面靜電噴塑,內(nèi)膽316L不銹鋼材料制成;無縫不銹鋼加熱管,均勻分布在內(nèi)膽外壁,內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置;鋼化、雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內(nèi)物品實驗情況。

2.箱門閉合松緊能調(diào)節(jié),整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內(nèi)保持高真空度。

3.溫度微電腦PID控制,系統(tǒng)具有自動控溫、定時、超溫報警等,LCD液晶顯示,觸摸式按鍵,控溫準(zhǔn)確可靠。

4.智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時間。

5.HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計,使真空箱密封性能確保HMDS氣體無外漏顧慮。

6.無發(fā)塵材料,適用百級光刻間凈化環(huán)境使用。

三、HMDS烘箱技術(shù)參數(shù)

 

規(guī)格型號

PVD-090-HMDS

PVD-210-HMDS

容積(L)

90L

210L

控溫范圍

RT+10~250℃

溫度分辨率

0.1℃

控溫精度

±0.5℃

加熱方式

內(nèi)腔體外側(cè)加溫

隔板數(shù)量

2PCS

3PCS

真空度

<133Pa(真空度范圍100~100000pa)

真空泵

抽氣速度4升/秒,型號DM4

電源/功率

AC220/50Hz,3KW

AC380V/50Hz,4KW

內(nèi)膽尺寸W*D*H

450×450×450

560×640×600

外形尺寸W*D*H

800×630×850

1220×930×1755

外形尺寸(新款)

980×655×1600

1220×930×1755


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